Impact of UV-induced ozone and low-energy Ar$^{+}$-ion cleaning on the chemical structure of Cu(In,Ga)(S,Se)$_{2}$absorber surfaces

Van Maris, Victor R.; Hauschild, Dirk; Niesen, T. P.; Eraerds, P.; Dalibor, T.; Palm, J.; Blum, M.; Yang, W.; Heske, Clemens; Weinhardt, Lothar

doi:10.1063/5.0020253

Impact of UV-induced ozone and low-energy Ar$^{+}$-ion cleaning on the chemical structure of Cu(In,Ga)(S,Se)$_{2}$absorber surfaces

Van Maris, Victor R. ¹^,2; Hauschild, Dirk ¹^,2; Niesen, T. P.; Eraerds, P.; Dalibor, T.; Palm, J.; Blum, M.; Yang, W.; Heske, Clemens ¹^,2; Weinhardt, Lothar ¹^,2
¹ Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
² Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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DOI: 10.1063/5.0020253

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS) Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr	09.2020
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0021-8979, 0148-6349, 1089-7550, 1520-8850, 2163-5102 KITopen-ID: 1000126026
HGF-Programm	56.03.10 (POF III, LK 01) Material a. Processes f. Energy Technol.
Erschienen in	Journal of applied physics
Verlag	AIP
Band	128
Heft	15
Seiten	Art. Nr.: 155301
Nachgewiesen in	Web of Science Dimensions Scopus

Repository KITopen

Impact of UV-induced ozone and low-energy Ar$^{+}$-ion cleaning on the chemical structure of Cu(In,Ga)(S,Se)$_{2}$absorber surfaces