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Impact of UV-induced ozone and low-energy Ar$^{+}$-ion cleaning on the chemical structure of Cu(In,Ga)(S,Se)$_{2}$absorber surfaces

Van Maris, Victor R.; Hauschild, Dirk; Niesen, T. P.; Eraerds, P.; Dalibor, T.; Palm, J.; Blum, M.; Yang, W.; Heske, Clemens; Weinhardt, Lothar



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8979, 0148-6349, 1089-7550, 1520-8850, 2163-5102
KITopen-ID: 1000126026
HGF-Programm 56.03.10 (POF III, LK 01) Material a. Processes f. Energy Technol.
Erschienen in Journal of applied physics
Band 128
Heft 15
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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