Ab-initio simulation of doped injection layers

Symalla, F.; Fediai, Artem ¹; Armleder, Jonas ¹; Kaiser, Simon

¹; Strunk, T.; Neumann, T.; Wenzel, Wolfgang ¹
¹ Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Postprint

DOI: 10.5445/IR/1000126319

Veröffentlicht am 26.09.2021

Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/sdtp.13946

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2020
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0003-966X, 0082-0830, 0097-966X, 2154-6738, 2154-6746, 2168-0159 KITopen-ID: 1000126319
HGF-Programm	43.21.04 (POF III, LK 01) Molecular Engineering
Erschienen in	Digest of technical papers
Verlag	John Wiley and Sons
Band	51
Heft	1
Seiten	630-633
Nachgewiesen in	Dimensions Scopus