Ab-initio simulation of doped injection layers

Symalla, F.; Fediai, Artem ¹; Armleder, Jonas ¹; Kaiser, Simon

¹; Strunk, T.; Neumann, T.; Wenzel, Wolfgang ¹
¹ Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Postprint

DOI: 10.5445/IR/1000126319

Veröffentlicht am 26.09.2021

Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/sdtp.13946

Scopus
Zitationen: 10

Dimensions
Zitationen: 10

Seitenaufrufe: 125
seit 23.11.2020

Downloads: 120
seit 23.12.2021

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2020
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0003-966X, 0082-0830, 0097-966X, 2154-6738, 2154-6746, 2168-0159 KITopen-ID: 1000126319
HGF-Programm	43.21.04 (POF III, LK 01) Molecular Engineering
Erschienen in	Digest of technical papers
Verlag	John Wiley and Sons
Band	51
Heft	1
Seiten	630-633
Nachgewiesen in	Dimensions Scopus