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Ab-initio simulation of doped injection layers

Symalla, F.; Fediai, Artem; Armleder, Jonas; Kaiser, Simon; Strunk, T.; Neumann, T.; Wenzel, Wolfgang



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0003-966X, 0082-0830, 0097-966X, 2154-6738, 2154-6746, 2168-0159
KITopen-ID: 1000126319
Erschienen in Digest of technical papers
Band 51
Heft 1
Seiten 630-633
Nachgewiesen in Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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