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Self-aligned single-exposure deep x-ray lithography

Nazmov, V.P.; Goldenberg, B.G.; Reznikova, E.F.; Boerner, M.

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/5.0030469
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Zukunftscampus (CAMPUS)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2020
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-0-7354-4033-3
ISSN: 0094-243X
KITopen-ID: 1000126670
HGF-Programm 43.23.02 (POF III, LK 01) X-Ray Optics
Erschienen in SYNCHROTRON AND FREE ELECTRON LASER RADIATION: Generation and Application (SFR-2020)
Veranstaltung International Conference "Synchrotron and Free Electron Laser Radiation: Generation and Application" (SFR 2020), Nowosibirsk, Russland, 13.07.2020 – 17.07.2020
Verlag AIP Publishing
Seiten Article no: 060010
Serie AIP Conference Proceedings ; 2299
Vorab online veröffentlicht am 17.11.2020
Schlagwörter Proposal-Nr. 014-011-003210: EBL, XRL
Nachgewiesen in Scopus
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