Self-aligned single-exposure deep x-ray lithography
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Zukunftscampus (CAMPUS) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2020 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-0-7354-4033-3 ISSN: 0094-243X KITopen-ID: 1000126670 |
| HGF-Programm | 43.23.02 (POF III, LK 01) X-Ray Optics |
| Erschienen in | SYNCHROTRON AND FREE ELECTRON LASER RADIATION: Generation and Application (SFR-2020) |
| Veranstaltung | International Conference "Synchrotron and Free Electron Laser Radiation: Generation and Application" (SFR 2020), Nowosibirsk, Russland, 13.07.2020 – 17.07.2020 |
| Verlag | AIP Publishing |
| Seiten | Article no: 060010 |
| Serie | AIP Conference Proceedings ; 2299 |
| Vorab online veröffentlicht am | 17.11.2020 |
| Schlagwörter | Proposal-Nr. 014-011-003210: EBL, XRL |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus |