Self-aligned single-exposure deep x-ray lithography

Nazmov, V. P.; Goldenberg, B. G.; Reznikova, E. F.; Boerner, M. ¹
¹ Zukunftscampus (CAMPUS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/5.0030469

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Zukunftscampus (CAMPUS)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	2020
Sprache	Englisch
Identifikator	ISBN: 978-0-7354-4033-3 ISSN: 0094-243X KITopen-ID: 1000126670
HGF-Programm	43.23.02 (POF III, LK 01) X-Ray Optics
Erschienen in	SYNCHROTRON AND FREE ELECTRON LASER RADIATION: Generation and Application (SFR-2020)
Veranstaltung	International Conference "Synchrotron and Free Electron Laser Radiation: Generation and Application" (SFR 2020), Nowosibirsk, Russland, 13.07.2020 – 17.07.2020
Verlag	AIP Publishing
Seiten	Article no: 060010
Serie	AIP Conference Proceedings ; 2299
Vorab online veröffentlicht am	17.11.2020
Schlagwörter	Proposal-Nr. 014-011-003210: EBL, XRL
Nachgewiesen in	Dimensions Scopus