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Nb/Al-AlO$_x$/Nb fabrication process for High-Quality Josephson Junctions

Meckbach, J. M.; Kaiser, Ch.; Heni, W.; Heunisch, S.; Ilin, K.; Siegel, M.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Publikationstyp Poster
Publikationsmonat/-jahr 10.2010
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000126822
Veranstaltung Tagung Kryoelektronische Bauelemente (KRYO 2010), Zeuthen, Deutschland, 03.10.2010 – 05.10.2010
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