In Situ Monitoring of Thermally Induced Effects in Nickel-Rich Layered Oxide Cathode Materials at the Atomic Level

Pokle, Anuj; Ahmed, Shamail; Schweidler, Simon

¹; Bianchini, Matteo ¹; Brezesinski, Torsten

¹; Beyer, Andreas; Janek, Jürgen ¹; Volz, Kerstin
¹ Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Postprint

DOI: 10.5445/IR/1000128157

Veröffentlicht am 08.11.2022

Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsami.0c16685

Scopus
Zitationen: 14

Dimensions
Zitationen: 16

Seitenaufrufe: 89
seit 08.01.2021

Downloads: 12
seit 15.11.2022

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr	12.2020
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 1944-8244, 1944-8252 KITopen-ID: 1000128157
HGF-Programm	37.01.01 (POF III, LK 01) Fundamentals and Materials
Erschienen in	ACS applied materials & interfaces
Verlag	American Chemical Society (ACS)
Band	12
Heft	51
Seiten	57047–57054
Vorab online veröffentlicht am	09.12.2020
Nachgewiesen in	Scopus Dimensions