Tolerating Retention Failures in Neuromorphic Fabric based on Emerging Resistive Memories
Munch, Christopher
1; Bishnoi, Rajendra; Tahoori, Mehdi B. 1
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Bishnoi, Rajendra; Tahoori, Mehdi B. 11 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Technische Informatik (ITEC) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsmonat/-jahr | 01.2020 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-1-72814-123-7 KITopen-ID: 1000128881 |
| Erschienen in | 25th Asia and South Pacific Design Automation Conference, ASP-DAC 2020; Beijing; China; 13 January 2020 through 16 January 2020 |
| Verlag | Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) |
| Seiten | 393–400 |
| Nachgewiesen in | OpenAlex Scopus Dimensions |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |