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Tolerating Retention Failures in Neuromorphic Fabric based on Emerging Resistive Memories

Munch, Christopher; Bishnoi, Rajendra; Tahoori, Mehdi B.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1109/ASP-DAC47756.2020.9045339
Scopus
Zitationen: 2
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Technische Informatik (ITEC)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsmonat/-jahr 01.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-72814-123-7
KITopen-ID: 1000128881
Erschienen in 25th Asia and South Pacific Design Automation Conference, ASP-DAC 2020; Beijing; China; 13 January 2020 through 16 January 2020
Verlag Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
Seiten 393–400
Nachgewiesen in Scopus
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