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A mathematical model for deep ion implantation depth profiling by synchrotron radiation grazing-incidence X-ray fluorescence spectrometry

Czyzycki, Mateusz 1; Kokkoris, M.; Karydas, A.-G.
1 Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1039/d0ja00346h
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Zitationen: 2
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Zitationen: 2
Zugehörige Institution(en) am KIT Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0267-9477, 1364-5544
KITopen-ID: 1000129131
Erschienen in Journal of analytical atomic spectrometry
Verlag Royal Society of Chemistry (RSC)
Band 35
Heft 12
Seiten 2964-2973
Nachgewiesen in Scopus
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