Formation of unstrained Si$_{1-x}$Ge$_{x.}$ layers by high-dose $^{74}$Ge ion implantation in SIMOX
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM) Universität Karlsruhe (TH) – Zentrale Einrichtungen (Zentrale Einrichtungen) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 02.1994 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0168-583X KITopen-ID: 1000129332 |
| Erschienen in | Nuclear instruments & methods in physics research / B |
| Verlag | Elsevier |
| Band | 84 |
| Heft | 2 |
| Seiten | 218–221 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |