TEM analysis of epitaxial semiconductor layers with high stacking fault densities considering artifacts induced by the cross-section geometry
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM) Universität Karlsruhe (TH) – Zentrale Einrichtungen (Zentrale Einrichtungen) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 04.2000 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0304-3991 KITopen-ID: 1000129439 |
| Erschienen in | Ultramicroscopy |
| Verlag | Elsevier |
| Band | 81 |
| Heft | 3-4 |
| Seiten | 279–288 |
| Nachgewiesen in | Dimensions OpenAlex Web of Science Scopus |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |