Effects of Chemical Mechanical Polishing on the Laser Induced Damage Threshold of ZnGeP₂

Muller, Olivier; Hildenbrand, Anne; Kieleck, Christelle; Berrou, Antoine; Moitrier, Florence; Eichhorn, Marc; Ackermann, Lothar; Wenzel, S.; Dupré, Klaus; Wenzel, B.; Petit, Johan; Rame, J.; Melkonian, Jean-Michel; Raybaut, M.; Dherbecourt, J. B.; Godard, Antoine

Effects of Chemical Mechanical Polishing on the Laser Induced Damage Threshold of ZnGeP₂

Muller, Olivier; Hildenbrand, Anne; Kieleck, Christelle; Berrou, Antoine; Moitrier, Florence; Eichhorn, Marc; Ackermann, Lothar; Wenzel, S.; Dupré, Klaus; Wenzel, B.; Petit, Johan; Rame, J.; Melkonian, Jean-Michel; Raybaut, M.; Dherbecourt, J. B.; Godard, Antoine

Export

Statistiken

Seitenaufrufe: 107
seit 22.03.2021

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Regelungs- und Steuerungssysteme (IRS)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	2014
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 1000130715
Erschienen in	6th EPS-QEOD Europhoton Conference
Veranstaltung	6th EPS-QEOD Europhoton Conference "Solid-State and Fiber Coherent Light Sources" (EUROPHOTON 2014), Neuenburg, Schweiz, 24.08.2014 – 29.08.2014
Externe Relationen	Siehe auch

Repository KITopen

Effects of Chemical Mechanical Polishing on the Laser Induced Damage Threshold of ZnGeP₂