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Synthesis of Silicates for High-Performance Oxide Semiconductors: Electronic Structure Analysis

Longo, Roberto C.; Schewe, Nils ORCID iD icon 1; Weidler, Peter G. 1; Heissler, Stefan 1; Thissen, Peter 1
1 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Postprint §
DOI: 10.5445/IR/1000132796
Veröffentlicht am 07.06.2022
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsaelm.0c00856
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Zitationen: 5
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 01.2021
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2637-6113, 2637-6113
KITopen-ID: 1000132796
HGF-Programm 43.33.11 (POF IV, LK 01) Adaptive and Bioinstructive Materials Systems
Erschienen in ACS applied electronic materials
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 3
Heft 1
Seiten 299–308
Nachgewiesen in Web of Science
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