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High entropy silicides: CALPHAD-guided prediction and thin film fabrication

Vyatskikh, Alexandra L.; MacDonald, Benjamin E.; Dupuy, Alexander D.; Lavernia, Enrique J.; Schoenung, Julie M.; Hahn, Horst 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.scriptamat.2021.113914
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2021
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1359-6462, 1872-8456
KITopen-ID: 1000133551
HGF-Programm 43.31.01 (POF IV, LK 01) Multifunctionality Molecular Design & Material Architecture
Erschienen in Scripta Materialia
Verlag Elsevier
Band 201
Seiten Art.-Nr.: 113914
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