KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

High entropy silicides: CALPHAD-guided prediction and thin film fabrication

Vyatskikh, Alexandra L.; MacDonald, Benjamin E.; Dupuy, Alexander D.; Lavernia, Enrique J.; Schoenung, Julie M.; Hahn, Horst 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2021
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1359-6462, 1872-8456
KITopen-ID: 1000133551
HGF-Programm 43.31.01 (POF IV, LK 01) Multifunctionality Molecular Design & Material Architecture
Erschienen in Scripta Materialia
Verlag Elsevier
Band 201
Seiten Art.-Nr.: 113914
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
Dimensions
OpenAlex

Download
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.scriptamat.2021.113914
Scopus
Zitationen: 32
Web of Science
Zitationen: 32
Dimensions
Zitationen: 32
Seitenaufrufe: 140
seit 04.06.2021
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page