Deep Etching of LiNb$_{3}$ Using Inductively Coupled Plasma in SF -Based Gas Mixture
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 02.2021 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1057-7157, 1941-0158 KITopen-ID: 1000134566 |
| HGF-Programm | 43.31.01 (POF IV, LK 01) Multifunctionality Molecular Design & Material Architecture |
| Erschienen in | Journal of microelectromechanical systems |
| Verlag | IEEE Electron Devices Society |
| Band | 30 |
| Heft | 1 |
| Seiten | 90–95 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Web of Science Scopus |