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Deep Etching of LiNb$_{3}$ Using Inductively Coupled Plasma in SF -Based Gas Mixture

Osipov, Artem A.; Osipov, Armenak A.; Iankevich, Gleb A. 1; Speshilova, Anastasiya B.; Shakhmin, Alexander; Berezenko, Vladimir I.; Alexandrov, Sergey E.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1109/JMEMS.2020.3039350
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Zitationen: 4
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Zitationen: 2
Dimensions
Zitationen: 3
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 02.2021
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1057-7157, 1941-0158
KITopen-ID: 1000134566
HGF-Programm 43.31.01 (POF IV, LK 01) Multifunctionality Molecular Design & Material Architecture
Erschienen in Journal of microelectromechanical systems
Verlag IEEE Electron Devices Society
Band 30
Heft 1
Seiten 90–95
Nachgewiesen in Dimensions
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