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Solution synthesis and dielectric properties of alumina thin films: understanding the role of the organic additive in film formation

Hoffmann, Rudolf C.; Liedke, Maciej O.; Butterling, Maik; Wagner, Andreas; Trouillet, Vanessa 1,2; Schneider, Jörg J.
1 Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2021
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1477-9226, 0300-9246, 1470-479X, 1477-9234, 2050-5671
KITopen-ID: 1000135680
HGF-Programm 43.35.01 (POF IV, LK 01) Platform for Correlative, In Situ & Operando Charakterizat.
Erschienen in Dalton Transactions
Verlag Royal Society of Chemistry (RSC)
Band 50
Heft 25
Seiten 8811-8819
Schlagwörter KNMF Proposal 2019-023-027749
Nachgewiesen in Dimensions
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