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Solution processable in situ passivated silicon nanowires

Yan, Jun; Ge, Kunpeng; Li, Han 1; Yang, Xueliang; Chen, Jingwei; Wan, Lu; Guo, Jianxin; Li, Feng; Xu, Ying; Song, Dengyuan; Flavel, Benjamin S. 1; Chen, Jianhui 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1039/d1nr02131a
Scopus
Zitationen: 3
Web of Science
Zitationen: 5
Dimensions
Zitationen: 3
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2021
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2040-3364, 2040-3372
KITopen-ID: 1000135804
HGF-Programm 43.31.02 (POF IV, LK 01) Devices and Applications
Erschienen in Nanoscale
Verlag Royal Society of Chemistry (RSC)
Band 13
Heft 26
Seiten 11439–11445
Nachgewiesen in Dimensions
Scopus
OpenAlex
Web of Science
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