Wafer-level uniformity of atomic-layer-deposited niobium nitride thin films for quantum devices
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2021 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0734-2101, 1520-8559 KITopen-ID: 1000136119 |
| Erschienen in | Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films |
| Verlag | American Vacuum Society |
| Band | 39 |
| Heft | 5 |
| Seiten | 052401 |
| Nachgewiesen in | Scopus Web of Science OpenAlex Dimensions |