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Wafer-level uniformity of atomic-layer-deposited niobium nitride thin films for quantum devices

Knehr, Emanuel 1; Ziegler, Mario; Linzen, Sven; Ilin, Konstantin 1; Schanz, Patrick 1; Plentz, Jonathan; Diegel, Marco; Schmidt, Heidemarie; Il’ichev, Evgeni; Siegel, Michael 1
1 Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1116/6.0001126
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Zitationen: 13
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Zitationen: 12
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2021
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0734-2101, 1520-8559
KITopen-ID: 1000136119
Erschienen in Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
Verlag American Vacuum Society
Band 39
Heft 5
Seiten 052401
Nachgewiesen in Scopus
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Web of Science
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