Erratum: “Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)2 on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes” [J. Vac. Sci. Technol. A 38, 052602 (2020)]
Basher, Abdulrahman H.; Krstić, Marjan 1; Fink, Karin
2; Ito, Tomoko; Karahashi, Kazuhiro; Wenzel, Wolfgang 1; Hamaguchi, Satoshi
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2; Ito, Tomoko; Karahashi, Kazuhiro; Wenzel, Wolfgang 1; Hamaguchi, Satoshi1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 09.2021 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0734-2101, 1520-8559 KITopen-ID: 1000137393 |
| HGF-Programm | 43.31.01 (POF IV, LK 01) Multifunctionality Molecular Design & Material Architecture |
| Erschienen in | Journal of vacuum science & technology / A |
| Verlag | American Vacuum Society |
| Band | 39 |
| Heft | 5 |
| Seiten | Art.-Nr.: 057001 |
| Vorab online veröffentlicht am | 19.08.2021 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Scopus Dimensions |