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Erratum: “Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)2 on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes” [J. Vac. Sci. Technol. A 38, 052602 (2020)]

Basher, Abdulrahman H.; Krstić, Marjan 1; Fink, Karin ORCID iD icon 2; Ito, Tomoko; Karahashi, Kazuhiro; Wenzel, Wolfgang 1; Hamaguchi, Satoshi
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1116/6.0001319
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 09.2021
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0734-2101, 1520-8559
KITopen-ID: 1000137393
HGF-Programm 43.31.01 (POF IV, LK 01) Multifunctionality Molecular Design & Material Architecture
Erschienen in Journal of vacuum science & technology / A
Verlag American Vacuum Society
Band 39
Heft 5
Seiten Art.-Nr.: 057001
Vorab online veröffentlicht am 19.08.2021
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