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Strain Activation of Surface Chemistry on H-Terminated Si(111)

Hafshejani, Tahereh Mohammadi; Wohlgemuth, Jonas; Thissen, Peter


Postprint §
DOI: 10.5445/IR/1000138697
Veröffentlicht am 01.01.2023
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acs.jpcc.1c06309
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Zitationen: 3
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2021
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1932-7447, 1932-7455
KITopen-ID: 1000138697
HGF-Programm 43.33.11 (POF IV, LK 01) Adaptive and Bioinstructive Materials Systems
Erschienen in Journal of Physical Chemistry C
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 125
Heft 36
Seiten 19811–19820
Nachgewiesen in Dimensions
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