Fabrication of x-ray absorption gratings via deep x-ray lithography using a conventional x-ray tube
Pinzek, Simon; Beckenbach, Thomas; Viermetz, Manuel; Meyer, Pascal; Gustschin, Alex; Andrejewski, Jana; Gustschin, Nikolai; Herzen, Julia; Schulz, Joachim
; Pfeiffer, Franz
; Pfeiffer, Franz| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 10.2021 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 2708-8340 KITopen-ID: 1000139536 |
| HGF-Programm | 43.35.01 (POF IV, LK 01) Platform for Correlative, In Situ & Operando Charakterizat. |
| Erschienen in | Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology |
| Verlag | SPIE |
| Band | 20 |
| Heft | 04 |
| Seiten | Article no: 043801 |
| Vorab online veröffentlicht am | 04.10.2021 |
| Schlagwörter | KNMF-Proposal 2016-015-010729, Technologien: DLW, EBL, XRL |
| Nachgewiesen in | Web of Science Scopus Dimensions |