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Additive Fertigung von Polysilazan als präkeramisches Polymer für die Herstellung von passivierenden Dünnschichtkontakten für Solarzellen

Qazzazie-Hauser, A.; Honnef, K.; Hanemann, T.

Abstract:

Im Rahmen dieser Arbeit wurde eine Tinte für die additive Fertigung, speziell das Tintenstrahldrucken, entwickelt, welche als passivierender Dünnschichtkontakt in Silizium-Solarzellen eingesetzt werden soll. Die Tinte (AQ01), die hauptsäch-lich aus dem präkeramischen Polymer Polyorganosilazan besteht, wurde hinsichtlich ihrer rheologischen, strukturellen und thermischen Eigenschaften untersucht. Anschließend wurde die Druckbarkeit von Dünnschichten mittels Tinten-strahldruckers geprüft. Die Ergebnisse zeigen, dass die entwickelte Tinte die Anforderungen des Tintenstrahldruckers erfüllt, da sie sowohl eine niedrige Viskosität (unter 20 mPa∙s) als auch Newton‘sches Verhalten bei hohen Scherraten aufweist. ... mehr

Abstract (englisch):

In this work, an ink formulation based on polyorganosilazane was developed to be processed by inkjet printing acting as passivation layer for silicon solar cells. The ink (AQ01) was studied regarding its rheological, structural, and thermal properties. The printability of the thin layers was then tested using an inkjet printer. The results show that the developed ink meets the requirements of the inkjet printer by showing both low viscosity (below 20 mPa∙s) and Newtonian behavior even at high shear rates. Additionally, the ink has a surface tension of 21 mN/m2. The ink was photochemically cross-linked and then pyrolyzed at 950 °C resulting in a ceramic yield of about 76 %. ... mehr


Postprint §
DOI: 10.5445/IR/1000139954
Veröffentlicht am 01.12.2022
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Werkstoffkunde (IAM-WK)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsmonat/-jahr 11.2021
Sprache Deutsch
Identifikator ISBN: 978-3-8007-5656-8
KITopen-ID: 1000139954
HGF-Programm 43.34.01 (POF IV, LK 01) Lightweight Materials for Structural and Medical Application
Erschienen in MikroSystemTechnik Kongress 2021
Veranstaltung MikroSystemTechnik Kongress (2021), Ludwigsburg, Deutschland, 08.11.2021 – 10.11.2021
Verlag VDE Verlag
Seiten 376 - 379
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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