KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Effect of HCl Chemical Reaction Etching on Thick Semipolar (11–22) GaN Growth by Hydride Vapor Phase Epitaxy

Choi, Uiho; Woo, Seohwi; Lee, Sangil; So, Byeongchan ORCID iD icon; Nam, Okhyun


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 11.2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1533-4880
KITopen-ID: 1000142934
Erschienen in Journal of nanoscience and nanotechnology
Verlag American Scientific Publishers
Band 16
Heft 11
Seiten 11619–11623
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page