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Defect reduction of SiN$_x$ embedded m -plane GaN grown by hydride vapor phase epitaxy

Woo, Seohwi; Kim, Minho; So, Byeongchan ORCID iD icon; Yoo, Geunho; Jang, Jongjin; Lee, Kyuseung; Nam, Okhyun


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2014.08.014
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Zitationen: 10
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 12.2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0022-0248
KITopen-ID: 1000142936
Erschienen in Journal of crystal growth
Verlag Elsevier
Band 407
Seiten 6–10
Nachgewiesen in Scopus
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