KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Impact of Carbon Contamination Cleaning Technologies on Reflectivity of Extreme Ultraviolet Lithography Optics

Wang Yi, 王 依 1; Lu Qipeng, 卢启鹏; Gao Yunguo, 高云国
1 Lichttechnisches Institut (LTI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.3788/CJL201744.0303004
Scopus
Zitationen: 1
Zugehörige Institution(en) am KIT Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0258-7025
KITopen-ID: 1000143704
Erschienen in Chinese Journal of Lasers
Verlag Shang hai ke xue ji shu chu ban she
Band 44
Heft 3
Seiten Art.-Nr.: 0303004
Nachgewiesen in Dimensions
Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page