KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Structure, electrical, and optical properties of reactively sputter-deposited Ta—Al—N thin films

Anğay, Fırat; Camelio, Sophie; Eyidi, Dominique; Krause, Bärbel ORCID iD icon 1; Abadias, Gregory
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Download
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/5.0082537
Scopus
Zitationen: 5
Web of Science
Zitationen: 5
Dimensions
Zitationen: 4
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 14.03.2022
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8979, 1089-7550
KITopen-ID: 1000143707
HGF-Programm 56.12.11 (POF IV, LK 01) Materials - Quantum, Complex and Functional
Erschienen in Journal of Applied Physics
Verlag American Institute of Physics (AIP)
Band 131
Heft 10
Seiten Art.-Nr.: 105303
Nachgewiesen in Scopus
Dimensions
Web of Science
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page