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Investigation on the mechanical interface stability of curved high aspect ratio x-ray gratings made by deep x-ray lithography

Richter, Michael 1; Beckenbach, Thomas; Daerr, Heiner; Prevrhal, Sven; Börner, Martin 1; Gutekunst, Josephine 1; Zangi, Pouria 1; Last, Arndt 1; Korvink, Jan G. 1; Meyer, Pascal 1
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/1.JMM.21.2.024901
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Zitationen: 3
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Zitationen: 4
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 25.05.2022
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2708-8340
KITopen-ID: 1000146693
HGF-Programm 43.35.01 (POF IV, LK 01) Platform for Correlative, In Situ & Operando Charakterizat.
Erschienen in Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology
Verlag SPIE
Band 21
Heft 2
Seiten Art.Nr. 024901
Vorab online veröffentlicht am 01.04.2022
Schlagwörter Proposal: 2017-019-020930, Technologien: EBL, FIB, XRL
Nachgewiesen in Web of Science
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