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The structure of the electric double layer: Atomistic versus continuum approaches

Sakong, Sung ; Huang, Jun; Eikerling, Michael; Groß, Axel 1
1 Helmholtz-Institut Ulm (HIU), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.coelec.2022.100953
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Zugehörige Institution(en) am KIT Helmholtz-Institut Ulm (HIU)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 06.2022
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2451-9103
KITopen-ID: 1000148712
HGF-Programm 38.02.02 (POF IV, LK 01) Components and Cells
Erschienen in Current Opinion in Electrochemistry
Verlag Elsevier
Band 33
Seiten Art.Nr. 100953
Vorab online veröffentlicht am 05.02.2022
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