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Adhesion and collapse of extreme ultraviolet photoresists and the role of underlayers

Fallica, Roberto ; Chen, Steven 1; De Simone, Danilo; Suh, Hyo Seon
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/1.JMM.21.3.034601
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Zitationen: 23
Web of Science
Zitationen: 18
Dimensions
Zitationen: 22
Zugehörige Institution(en) am KIT Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 25.07.2022
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2708-8340
KITopen-ID: 1000155127
Erschienen in Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology
Verlag SPIE
Band 21
Heft 03
Seiten Art.-Nr. 034601
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
OpenAlex
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