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Abbildende Ellipsometrie mit Lichtwegumkehrung für die optische Charakterisierung von gekrümmten Oberflächen

Negara, Christian Emanuel ORCID iD icon

Abstract:

Die Ellipsometrie ist ein Messverfahren zur Oberflächencharakterisierung und Dünnschichtmessung von ebenen Oberflächen unter Verwendung von polarisiertem Licht. Ein neues Messprinzip basierend auf Lichtwegumkehrung und Retroreflexion ermöglicht jedoch die Erfassung von beliebigen Freiformflächen. Dieses neue Messprinzip und damit verbundene Fragestellungen zur Messabbildung, Auswertealgorithmik und Mehrdeutigkeiten sowie Freiheitsgrade der Lösungsmenge werden in dieser Arbeit untersucht.

Abstract (englisch):

Ellipsometry is a measuring method for surface characterization and thin-film measurement of flat surfaces using polarized light. However, a new measuring principle based on return-path ellipsometry and retroreflection enables the detection of free-form surfaces. This new measurement principle and related questions regarding measurement mapping, evaluation algorithms and ambiguities as well as degrees of freedom of the solution set are examined in this work.


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000158534
Veröffentlicht am 01.06.2023
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Anthropomatik und Robotik (IAR)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsdatum 01.06.2023
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 1000158534
Verlag Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
Umfang xxii, 289 S.
Art der Arbeit Dissertation
Fakultät Fakultät für Informatik (INFORMATIK)
Institut Institut für Anthropomatik und Robotik (IAR)
Prüfungsdatum 26.01.2023
Schlagwörter Ellipsometrie, Oberflächenprüfung, gekrümmte Oberflächen, Messtechnik, Polarisation, Retroreflexion, Bildverarbeitung, Automatische Sichtprüfung
Relationen in KITopen
Referent/Betreuer Beyerer, J.
Lemmer, Uli
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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