Abbildende Ellipsometrie mit Lichtwegumkehrung für die optische Charakterisierung von gekrümmten Oberflächen

Die Ellipsometrie ist ein Messverfahren zur Oberflächencharakterisierung und Dünnschichtmessung von ebenen Oberflächen unter Verwendung von polarisiertem Licht. Ein neues Messprinzip basierend auf Lichtwegumkehrung und Retroreflexion ermöglicht jedoch die Erfassung von beliebigen Freiformflächen. Dieses neue Messprinzip und damit verbundene Fragestellungen zur Messabbildung, Auswertealgorithmik und Mehrdeutigkeiten sowie Freiheitsgrade der Lösungsmenge werden in dieser Arbeit untersucht.

Ellipsometry is a measuring method for surface characterization and thin-film measurement of flat surfaces using polarized light. However, a new measuring principle based on return-path ellipsometry and retroreflection enables the detection of free-form surfaces. This new measurement principle and related questions regarding measurement mapping, evaluation algorithms and ambiguities as well as degrees of freedom of the solution set are examined in this work.