Importance of TEM sample thickness for measuring strain fields
Kang, Sangjun
1; Wang, Di
1,2; Kübel, Christian
1,2; Mu, Xiaoke 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Wang, Di
1,2; Kübel, Christian
1,2; Mu, Xiaoke 11 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 01.2024 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0304-3991, 1879-2723 KITopen-ID: 1000162657 |
| HGF-Programm | 43.35.01 (POF IV, LK 01) Platform for Correlative, In Situ & Operando Charakterizat. |
| Erschienen in | Ultramicroscopy |
| Verlag | Elsevier |
| Band | 255 |
| Seiten | Art.Nr.: 113844 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |