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Importance of TEM sample thickness for measuring strain fields

Kang, Sangjun ORCID iD icon 1; Wang, Di ORCID iD icon 1,2; Kübel, Christian ORCID iD icon 1,2; Mu, Xiaoke 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.ultramic.2023.113844
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Zitationen: 2
Web of Science
Zitationen: 2
Dimensions
Zitationen: 5
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 01.2024
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0304-3991, 1879-2723
KITopen-ID: 1000162657
HGF-Programm 43.35.01 (POF IV, LK 01) Platform for Correlative, In Situ & Operando Charakterizat.
Erschienen in Ultramicroscopy
Verlag Elsevier
Band 255
Seiten Art.Nr.: 113844
Nachgewiesen in Dimensions
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