Zugehörige Institution(en) am KIT | IAP (IAP) Institut für Angewandte Physik (APH) Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Organische Chemie (IOC) |
Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
Publikationsjahr | 2024 |
Sprache | Englisch |
Identifikator | ISSN: 0935-9648, 1521-4095 KITopen-ID: 1000164901 |
HGF-Programm | 43.32.02 (POF IV, LK 01) Designed Optical Materials |
Erschienen in | Advanced Materials |
Verlag | John Wiley and Sons |
Band | 36 |
Heft | 3 |
Seiten | Art.-Nr.: 2306468 |
Vorab online veröffentlicht am | 08.09.2023 |
Schlagwörter | Direct laser lithography, 3D Printing, Photochemistry, Photoresist, Photoinitiator |
Nachgewiesen in | Dimensions Web of Science Scopus |