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Reliability of different fabrication processes for window- and cross-type Nb/Al-AlO$x$/Nb Josephson junctions

Bauer, Fabienne 1; Zimmerer, Florian; Ferring, Anna; Wegner, Mathias ORCID iD icon 2; Kempf, Sebastian 1,2; Enss, Christian
1 Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Prozessdatenverarbeitung und Elektronik (IPE), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Institut für Prozessdatenverarbeitung und Elektronik (IPE)
Publikationstyp Poster
Publikationsdatum 12.03.2018
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000165221
Veranstaltung DPG-Frühjahrstagung der Sektion Kondensierte Materie gemeinsam mit der EPS (2018), Berlin, Deutschland, 11.03.2018 – 16.03.2018
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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