Dynamic evolution of internal stress, grain growth, and crystallographic texture in arc-evaporated AlTiN thin films using in-situ synchrotron x-ray diffraction

Nayak, Sanjay; Hsu, Tun-Wei; Boyd, Robert; Gibmeier, Jens; Schell, Norbert; Birch, Jens; Rogström, Lina; Odén, Magnus

doi:10.1016/j.actamat.2024.119899

Dynamic evolution of internal stress, grain growth, and crystallographic texture in arc-evaporated AlTiN thin films using in-situ synchrotron x-ray diffraction

Nayak, Sanjay ; Hsu, Tun-Wei; Boyd, Robert; Gibmeier, Jens ¹; Schell, Norbert; Birch, Jens; Rogström, Lina; Odén, Magnus
¹ Institut für Angewandte Materialien – Werkstoffkunde (IAM-WK), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Materialien – Werkstoffkunde (IAM-WK)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr	06.2024
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 1359-6454 KITopen-ID: 1000169937
Erschienen in	Acta Materialia
Verlag	Elsevier
Band	272
Seiten	Article no: 119899
Nachgewiesen in	Dimensions Web of Science OpenAlex Scopus
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DOI: 10.5445/IR/1000169937

Veröffentlicht am 16.04.2024

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Dynamic evolution of internal stress, grain growth, and crystallographic texture in arc-evaporated AlTiN thin films using in-situ synchrotron x-ray diffraction