KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Wetting and Contact-Angle Hysteresis: Density Asymmetry and van der Waals Force

Wang, Fei ORCID iD icon 1,2; Nestler, Britta 1,2
1 Institut für Angewandte Materialien – Mikrostruktur-Modellierung und Simulation (IAM-MMS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Abstract:

A droplet depositing on a solid substrate leads to the wetting phenomenon, such as dew on plant leaves. On an ideally smooth substrate, the classic Young’s law has been employed to describe the wetting effect. However, no real substrate is ideally smooth at the microscale. Given this fact, we introduce a surface composition concept to scrutinize the wetting mechanism via considering the liquid-gas density asymmetry and the fluid-solid van der Waals interaction. The current concept enables one to comprehend counterintuitive phenomenon of contact-angle hysteresis on a smooth substrate and increase of contact angle with temperature as well as gas bubble wetting.


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000171042
Veröffentlicht am 28.05.2024
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevLett.132.126202
Scopus
Zitationen: 10
Web of Science
Zitationen: 5
Dimensions
Zitationen: 11
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Angewandte Materialien – Mikrostruktur-Modellierung und Simulation (IAM-MMS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 03.2024
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0031-9007, 1079-7114
KITopen-ID: 1000171042
HGF-Programm 43.31.01 (POF IV, LK 01) Multifunctionality Molecular Design & Material Architecture
Erschienen in Physical Review Letters
Verlag American Physical Society (APS)
Band 132
Heft 12
Seiten Art.-Nr.: 126202
Vorab online veröffentlicht am 18.03.2024
Nachgewiesen in Dimensions
Scopus
Web of Science
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page