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Inverse-Designed 3D Laser Nanoprinted Phase Masks to Extend the Depth of Field of Imaging Systems

Sturges, Thomas Jebb ORCID iD icon 1; Nyman, Markus 2; Kalt, Sebastian ORCID iD icon 3; Palsi, Kauri; Hilden, Panu; Wegener, Martin 2,3; Rockstuhl, Carsten ORCID iD icon 1,2; Shevchenko, Andrij
1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsphotonics.4c00953
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Zitationen: 5
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Zitationen: 2
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 18.09.2024
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2330-4022
KITopen-ID: 1000174276
HGF-Programm 43.32.02 (POF IV, LK 01) Designed Optical Materials
Erschienen in ACS photonics
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 11
Heft 9
Seiten 3765–3773
Vorab online veröffentlicht am 03.09.2024
Nachgewiesen in Web of Science
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