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Phase-Field Simulation of Abnormal/Normal Recrystallization Kinetics in Ultrafine-Grained Aluminum Processed by High-Pressure Torsion Extrusion

Abramova, Olena; Nugmanov, Dayan 1; Schneider, Daniel ORCID iD icon 1; Prahs, Andreas; Mittnacht, Tobias; Ivanisenko, Julia 1; Baretzky, Brigitte; Nestler, Britta 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000176224
Veröffentlicht am 13.11.2024
Originalveröffentlichung
DOI: 10.2139/ssrn.4617296
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Forschungsbericht/Preprint
Publikationsdatum 31.10.2023
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000176224
HGF-Programm 43.31.01 (POF IV, LK 01) Multifunctionality Molecular Design & Material Architecture
Verlag Elsevier
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