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Amorphous Doped Indium Tin Oxide Thin‐Films by Atomic Layer Deposition.Insights into Their Structural, Electronic and Device Reliability

Büschges, M. Isabelle; Trouillet, Vanessa 1,2; Dippel, Ann-Christin; Schneider, Jörg J.
1 Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000176776
Veröffentlicht am 02.12.2024
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2024
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2196-7350
KITopen-ID: 1000176776
Erschienen in Advanced Materials Interfaces
Verlag John Wiley and Sons
Seiten Article no: 2400758
Vorab online veröffentlicht am 14.11.2024
Schlagwörter XPS 2024-031-031967
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