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Phase-field-simulation of the static recrystallization and grain growth kinetics of ultrafine-grained aluminum processed by high pressure torsion extrusion

Abramova, Olena 1; Nugmanov, Dayan 1; Schneider, Daniel ORCID iD icon 1; Prahs, Andreas ORCID iD icon 2; Mittnacht, Tobias 2; Ivanisenko, Julia 1; Baretzky, Brigitte 1; Nestler, Britta 1,2
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Angewandte Materialien (IAM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.commatsci.2024.113553
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Zitationen: 1
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 02.2025
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0927-0256
KITopen-ID: 1000179319
HGF-Programm 43.31.01 (POF IV, LK 01) Multifunctionality Molecular Design & Material Architecture
Erschienen in Computational Materials Science
Verlag Elsevier
Band 248
Seiten 113553
Nachgewiesen in Scopus
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