Two Material Properties from One Wavelength‐Orthogonal Photoresin Enabled by a Monochromatic Laser Integrated Stereolithographic Apparatus (Mono LISA)

Wu, Xingyu; Ehrmann, Katharina; Gan, Ching Thye; Leuschel, Benjamin; Pashley-Johnson, Fred; Barner-Kowollik, Christopher

doi:10.1002/adma.202419639

Two Material Properties from One Wavelength‐Orthogonal Photoresin Enabled by a Monochromatic Laser Integrated Stereolithographic Apparatus (Mono LISA)

Wu, Xingyu ¹^,2; Ehrmann, Katharina ; Gan, Ching Thye; Leuschel, Benjamin; Pashley-Johnson, Fred; Barner-Kowollik, Christopher ¹^,2
¹ Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
² Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG) Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum	02.04.2025
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0935-9648, 1521-4095 KITopen-ID: 1000180586
Erschienen in	Advanced Materials
Verlag	John Wiley and Sons
Band	37
Heft	13
Seiten	Art.-Nr.: 2419639
Vorab online veröffentlicht am	17.02.2025
Nachgewiesen in	OpenAlex Dimensions Scopus Web of Science

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DOI: 10.5445/IR/1000180586

Veröffentlicht am 04.04.2025

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Two Material Properties from One Wavelength‐Orthogonal Photoresin Enabled by a Monochromatic Laser Integrated Stereolithographic Apparatus (Mono LISA)