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Two‐Photon Grayscale Lithography (2GL) of High Mechanical and Optical Quality 3D Silica Glass Microstructures

Schneider, Jonathan L. G. 1; Liang, Jiajie 2; Somers, Paul 2; Wegener, Martin 1,2; Bauer, Jens 2,3
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Angewandte Materialien – Zuverlässigkeit und Mikrostruktur (IAM-ZM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000195930
Veröffentlicht am 11.08.2026
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Angewandte Materialien – Zuverlässigkeit und Mikrostruktur (IAM-ZM)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2026
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1616-301X, 1057-9257, 1099-0712, 1616-3028
KITopen-ID: 1000195930
Erschienen in Advanced Functional Materials
Verlag Wiley-VCH Verlag
Vorab online veröffentlicht am 27.07.2026
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