Atomistic aspects of metal deposition
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Chemie – Institut für Physikalische Chemie und Elektrochemie (Inst. f. Physikal. Chemie u. Elektrochem.) |
| Publikationstyp | Buchaufsatz |
| Publikationsjahr | 1996 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 104296 |
| Erscheinungsvermerk | In: Proceedings of the 2nd Symposium on Electrochemically Deposited Thin Films, Miami Beach, Fla. 1994. Ed.: M. Paunovic. Pennington, NJ 1994. S. 3. (Proceedings. Electrochemical Society. 94,31. Electrodeposition Division.) |