FT-IR studies accompanying the development of a plasmaless etching process on the basis of the elementary halogens bromine and fluorine
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1997 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110037454 |
| HGF-Programm | 52.01.13 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Mikrochimica Acta |
| Band | 14 |
| Seiten | 635-37 |
| Erscheinungsvermerk | Progress in Fourier Transform Spectroscopy : Proc.of the 10th Internat.Conf., Budapest, H, August 28 - September 1, 1995, Suppl. |