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Chemical deposition of metals for the formation of microstructures: an alternative method to galvanoforming?

Thies, A.; Schanz, G.; Walch, E.; Konys, J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1997
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110039940
HGF-Programm 41.02.01 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 42
Seiten 3033-40
Erscheinungsvermerk Electrochemical, Düsseldorf, August 28-30, 1996 Electrochimica Acta
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