Characterisation of defects in very high deep-etch X-ray lithography microstructures
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1998 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110041005 |
| HGF-Programm | 41.01.01 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Microsystem Technologies |
| Band | 4 |
| Seiten | 89-93 |
| Erscheinungsvermerk | High Aspect Ratio Microstructure Technology (HAMRST '97), Madison, Wis., June 20-21, 1997 |