Heat transport in masks for deep X-ray lithography during the irradiation process
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung (IMF) Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1997 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110041839 |
| HGF-Programm | 41.01.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Microelectronics Journal |
| Band | 28 |
| Seiten | 349-55 |