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Heat transport in masks for deep X-ray lithography during the irradiation process

Neumann, M.; Pantenburg, F.J.; Rohde, M.; Sesterhenn, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1997
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110041839
HGF-Programm 41.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Microelectronics Journal
Band 28
Seiten 349-55
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