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Influence of developer temperature and resist material on the structure quality in deep X-ray lithography

Pantenburg, F.J.; Achenbach, S.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1999
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110042935
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Journal of Vacuum Science and Technology B
Band 16
Seiten 3547-51
Erscheinungsvermerk Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication, Chicago, Ill., May 26-29, 1998,(1998)
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