Influence of developer temperature and resist material on the structure quality in deep X-ray lithography
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1999 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110042935 |
| HGF-Programm | 41.01.01 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Journal of Vacuum Science and Technology B |
| Band | 16 |
| Seiten | 3547-51 |
| Erscheinungsvermerk | Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication, Chicago, Ill., May 26-29, 1998,(1998) |