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Non-uniform SiO₂ membranes produced by ion beam-assisted chemical vapor deposition to tune WO₃ gas sensor microarrays

Goschnick, J.; Frietsch, M.; Schneider, T.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1998
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110043322
HGF-Programm 41.05.01 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Surface and Coatings Technology
Band 108-109
Seiten 292-96
Erscheinungsvermerk 25th Internat.Conf.on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF 98), San Diego, Calif., April 27 - May 1, 1998
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