Synthesis of silicon carbonitride thin films by means of r.f.-sputtering and ion implantation
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2000 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110044295 |
| HGF-Programm | 41.05.01 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Surface and Coatings Technology |
| Band | 116-119 |
| Seiten | 419-23 |
| Erscheinungsvermerk | 6th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 14-18, 1998,(1999) |