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Synthesis of silicon carbonitride thin films by means of r.f.-sputtering and ion implantation

Lutz, H.; Bruns, M.; Link, F.; Baumann, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110044295
HGF-Programm 41.05.01; LK 01
Erschienen in Surface and Coatings Technology
Band 116-119
Seiten 419-23
Erscheinungsvermerk 6th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 14-18, 1998,(1999)
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