KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Graded layer design for stress-reduced and strongly adherent superhard amorphous carbon films

Stüber, M.; Ulrich, S.; Leiste, H.; Kratzsch, A.; Holleck, H.



Seitenaufrufe: 2
seit 04.12.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1999
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110044569
HGF-Programm 41.02.03 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Surface and Coatings Technology
Band 116-119
Seiten 591-98
Erscheinungsvermerk Proc.of the 6th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 14-18, 1998
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page