Influence of the process gas, gas pressure, r.f.power and geometrical arrangement on the magnetron plasma parameters for various thin film materials of the systems Ti-N and B-C-N
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung (IMF) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1999 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110044572 |
| HGF-Programm | 42 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Surface and Coatings Technology |
| Band | 116-119 |
| Seiten | 949-55 |
| Erscheinungsvermerk | Proc.of the 6th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 14-18, 1998 |