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Influence of the process gas, gas pressure, r.f.power and geometrical arrangement on the magnetron plasma parameters for various thin film materials of the systems Ti-N and B-C-N

Kratzsch, A.; Ulrich, S.; Leiste, H.; Stüber, M.; Holleck, H.



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seit 07.12.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1999
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110044572
HGF-Programm 42 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Surface and Coatings Technology
Band 116-119
Seiten 949-55
Erscheinungsvermerk Proc.of the 6th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 14-18, 1998
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