Variation of carbon concentration, ion energy and ion current density of magnetron-sputtered boron carbonitride films
Ulrich, S.; Kratzsch, A.; Leiste, H.; Stüber, M.; Schlossmacher, P.; Holleck, H.; Binder, J.; Schild, D.
; Westermeyer, S.; Becker, P.; Oechsner, H.
; Westermeyer, S.; Becker, P.; Oechsner, H.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung (IMF) Institut für Nukleare Entsorgung (INE) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2000 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110044573 |
| HGF-Programm | 33.03.02 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Surface and Coatings Technology |
| Band | 116-119 |
| Seiten | 742-50 |
| Erscheinungsvermerk | 6th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 14-18, 1998,(1999) |