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Variation of carbon concentration, ion energy and ion current density of magnetron-sputtered boron carbonitride films

Ulrich, S.; Kratzsch, A.; Leiste, H.; Stüber, M.; Schlossmacher, P.; Holleck, H.; Binder, J.; Schild, D.; Westermeyer, S.; Becker, P.; Oechsner, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Institut für Nukleare Entsorgung (INE)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110044573
HGF-Programm 33.03.02; LK 01
Erschienen in Surface and Coatings Technology
Band 116-119
Seiten 742-50
Erscheinungsvermerk 6th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 14-18, 1998,(1999)
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